因此有人提出不使用或少量使用阴离子活性剂。但鉴于阴离子活性剂具有多种重要的化学功能，不可遗弃。那么，能否找到既充分利用它的优点，同时又避免它刺激皮肤的方法呢?有日本一家公司已研究成功。其方法是：在含阴离子活性剂的化妆料中添加聚乙二醇。

所用的聚乙二醇有聚乙二醇200，300，400，600，1000，1500，4000，6000等。阴离子活性剂和聚乙二醇的组成比为1：3:3～1：1800，最好是1：3:3～1：600。下面以洗发粉为例加以说明。

在化妆料总量中PEG和阴离子活性剂共占10～95%，最好是10～33%。顺便提一下，PEG的含量没有严格的限制。若配量少于前述范围就不能充分发挥抑制皮肤刺激的效果，而超过上述范围虽然对抑制效果没有影响，但成本和实用性不及上述范围。为更充分发挥抑制效果，且使产品的性能更加稳定，可加进少量的纯水。

*PEG：聚乙二醇

日本技术

该产品可用于改造现有日用化妆品对皮肤刺激引起的皮炎、癣症、过敏和其他瘙痒症。

国外化妆品大都使用此类配方。其中的聚乙二醇，按分子量有不同种类，江苏省宜兴第三化工厂生产。

例中以洗发粉为例，但亦可用于膏、霜、露、油、奶等形式的化妆品中。

产品增值20%，净增值14%左右，以年产值200万元计算可增值40万元，增加税利28万元左右。

主要设备：混合釜200—500立升

胶体磨或三辊机

振动筛

混合器